Concours de la meilleure photographie d'un lieu de mémoire de la Résistance et de la déportation
Le concours de photographie d'un lieu de mémoire s'adresse aux collégiens de troisième et aux lycéens. Il est organisé chaque année par les Fondations de la Résistance, pour la Mémoire de la Déportation et Charles de Gaulle. Les candidats doivent faire parvenir la photographie qu’ils présentent avant le 14 juillet de l’année en cours.
Un concours pour exprimer sa sensibilité aux aspects artistiques et architecturaux des lieux de Mémoire
Le concours de photographie des lieux de mémoire s'adresse aux collégiens en classe de troisième et aux lycéens.
Il a pour objectifs de permettre aux élèves :
- d'exprimer leur sensibilité aux aspects artistiques et architecturaux des lieux de mémoire relatifs à la Résistance intérieure et extérieure, à l'internement et à la Déportation situés en France ou à l'étranger
- de montrer leurs capacités et leur sensibilité à l'usage des techniques photographiques
Les photographies des lieux de mémoire peuvent être en rapport avec le thème du concours national de la Résistance et de la déportation de l'année de participation.
Comment participer au concours
Le nombre de photographies par candidat est limité à un tirage réalisé uniquement sur papier photographique. Le format doit être compris entre 10x15 cm et 24x30 cm.
Chaque photographie soumise au jury est accompagnée d'une présentation de la réalisation (commentaires personnels, choix de la technique utilisée, conditions de réalisation, etc.). Les candidats doivent faire parvenir la photographie qu’ils présentent avant le 14 juillet de l’année en cours.
Consulter le règlement du concours
Les trois meilleures photographies et les mentions sont diffusées sur les sites de la Fondation de la Résistance, de la Fondation pour la Mémoire de la Déportation et de la Fondation Charles de Gaulle.
Ressources et palmarès du concours
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